私たちの研究室では、新しい成膜方法である「エアロゾルデポジション法」を応用して、様々な機能性薄膜・厚膜の創製に関する研究に取り組んでいます。この成膜方法の大きな特徴のひとつは、通常は1000℃以上の高温で焼かないと固まらないセラミックスが、全く温度を上げることなく形成可能であることです。例えば、図のような無機ELに応用可能な蛍光膜の常温形成に成功しています。現在、この方法を開発した産業技術総合研究所と共同研究を行いながら、様々な分野での実用化を目指した研究開発を行っています。何年後、十何年後には、みなさんに使って頂けるような製品開発に貢献したいと考えています。